化[Hua]學鍍鎳層的退除要比(Bi)電鍍鎳層困難(Nan)得多,特别是(Shi)對于高[Gao]耐蝕(Shi)化學鍍鎳層(Ceng)更是如此。不合格的化(Hua)學鍍鎳層應[Ying]在[Zai]熱處理前就(Jiu)進[Jin]行退除,否[Fou]則鍍層鈍化後退鍍更困[Kun]難。要求退鍍液必須對基(Ji)體無腐蝕,其次鍍層厚度、退鍍速度、退鍍成本[Ben]等因[Yin]素都要考(Kao)慮。
??? (1)化學退[Tui]鍍法:
化學(Xue)退鍍法不使工件受腐蝕[Shi],适用幾何形狀[Zhuang]複雜的[De]工件,且可做(Zuo)到退鍍均勻。
配方1:濃HNO3,20~60℃。本液成本低,速度快(30~40μm/h),毒性小。适用尺(Chi)寸精密要求不高的工件退(Tui)鍍,防止帶入水、退(Tui)鍍完畢(Bi)迅速入(Ru)鹽酸中清洗後再用(Yong)流動水清洗。
配[Pei]方2:HNO3(1∶1),20~40℃,退速快(10μm/5~6min),适用(Yong)不鏽鋼。
配方3:濃HNO3 1000ml/L,NaCl 20g/L,尿素10g/L(抑制NOX氣體(Ti)的[De]生成),六[Liu]次甲(Jia)基(Ji)四胺5g/L,室溫(Wen),退速20μm/h。
配方4:間硝基苯[Ben]磺酸鈉60~70g/L,硫酸(Suan)100~120g/L,硫氰酸鉀0.5~1g/L,80~90,适用銅及銅合[He]金工件的退鍍,退鍍表面為深棕(Zong)色時,取[Qu]出後充分清洗,再除棕色膜(NaCN 30g/L,NaOH 30g/L,室溫)。
配方5:HNO3∶HF=4∶1(體積[Ji]比),冬天适當(Dang)加溫,退速快,鐵基體[Ti]不腐蝕。但HF一定要(Yao)用分析純(用(Yong)工業級HF配槽,易(Yi)發生爆炸)。
配方6:硝酸(Suan)铵100g/L,氨三乙酸40g/L,六次甲基四胺20g/L,pH=6,室溫,退速1/5min,成本低。
配方7:間硝(Xiao)基苯磺酸(Suan)鈉110~130g/L,氰化鈉100~120g/L,氫氧(Yang)化[Hua]鈉8~10g/L,檸檬酸三鈉20~30g/L,80~90℃,适用精密鋼鐵件化[Hua]學鍍鎳(Nie)層的退除。
配[Pei]方8:間硝(Xiao)基苯磺酸鈉100g/L,NaOH 100g/L,乙[Yi]二胺120ml/L,十二烷基硫酸(Suan)鈉(Na)0.1g/L,60~80℃。調整時補加間硝[Xiao]基磺酸鈉,可使退速[Su]恢複[Fu]到最 高退速的80%。
??? (2)電解退鍍法
配方為:NaNO3 100g/L,氨三乙酸(Suan)15g/L,檸檬酸(Suan)20g/L,硫脲2g/L,葡萄糖酸鈉1g/L,十二烷[Wan]基硫酸(Suan)鈉(Na)0.1g/L,pH=4,室[Shi]溫,DA=2~10A/dm2,陰極10#鋼,SK∶SA=23∶1。
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